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半导体超纯水设备的工艺步骤
原标题：半导体超纯水设备的工艺步骤
半导体超纯水设备主要用于半导体工业用水。半导体超纯水设备结合相关技术可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质。输出电阻可达18兆欧以上，完全满足半导体要求。工业需水量。今天，小编就给大家介绍下半导体超纯水设备的工艺步骤。
半导体超纯水设备的工艺步骤
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象。
2、预处理-级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
上述就是半导体超纯水设备的工艺步骤，希望对大家有所帮助。
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